Grafén je chemický príbuzný diamantov, uhlia alebo grafitu ceruzkových olov. Je to jeden z najtvrdších a najodolnejších materiálov na svete. S iba jednou atómovou vrstvou (menej ako milióntina milimetra hrubá) je tiež jedným z najtenších materiálov vo vesmíre.

Čo robí z grafénu materiál s obrovským ekonomickým potenciálom. Je to preto, že výrobky na báze grafénu by sa mohli používať v solárnych článkoch, displejoch a počítačových aplikáciách. Napríklad grafénové tranzistory sú oveľa rýchlejšie ako kremíkové tranzistory.

Čo však v súčasnosti chýba, je možnosť výroby grafénu vo veľkom meradle pri nízkych nákladoch. Aj na tom sa však úspešne pracuje už niekoľko rokov. Existuje mnoho výrobných techník pre grafén. Jedným zo sľubných výrobných variantov je proces CVD (Chemical Vapor Deposition). V procese CVD sa na povrchu vytvára chemická reakcia pomocou zmesi plynov a zvýšenej teploty na syntézu grafénu a jeho následný prenos na rôzne substráty leptaním a razením.

Výskumníci teraz našli optimálny katalyzátor na výrobu veľkorastúcich grafénových povrchov. Ide o niklový film ako substrát, ktorý sa potom neskôr leptá. Čo však mnohých prekvapilo, bol objav CVD rastu grafénu na medenej fólii, ktorý vykazuje vynikajúcu homogenitu a presnú kontrolu vrstvenia. V tomto procese je rast grafénu obmedzený iba veľkosťou povrchu.

Výskumný článok ukazuje, že CVD tvorí veľkoplošné a vysoko kvalitné grafénové vrstvy na medi, ktoré by sa mohli preniesť na akýkoľvek substrát a potom vyleptať do ľubovoľného požadovaného tvaru. Podrobnosti nájdete v URL adrese nášho zdroja.