Negli ultimi anni, ci sono stati innumerevoli articoli, discussioni e rapporti sul materiale miracoloso chiamato "grafene". È uno dei materiali più duri e resistenti al mondo ed è sulla bocca di tutti al più tardi dal premio Nobel nel 2010. Grazie ai suoi numerosi vantaggi (ad esempio molto flessibile, quasi trasparente, 100-300 volte più resistente dell'acciaio, ottimo conduttore di calore, ecc.), ha un enorme potenziale economico e potrebbe essere utilizzato in futuro per la produzione di celle solari, display e microchip.

Da qualche tempo, tuttavia, sembra che il grafene abbia affrontato la concorrenza del fosforo nero non tossico (fosforo). Che, come il grafene, ha uno strato atomico bidimensionale. Tuttavia, ha una banda proibita molto più grande del grafene, rendendolo un candidato più promettente per i nanotransistor. Inoltre, gli studi scientifici del Trinity College di Dublino sotto la direzione di Jonathan Coleman ora confermano anche l'idoneità del fosforo nero per la produzione di massa.



Il fosforo nero è solitamente formato da fosforo bianco ad alta pressione (12.000 bar) e temperatura elevata (200 ° C). Tuttavia, recentemente è stato sviluppato un metodo di nuova concezione per sintetizzare arsenico-fosforo nero senza alta pressione. Che è più economico a causa della minore energia richiesta. Il metodo è stato sviluppato in collaborazione tra l'Università tecnica di Monaco (TUM) e l'Università di Ratisbona, nonché le università americane della California meridionale (USC) e Yale.

Se desideri saperne di più sui due risultati della ricerca menzionati qui, puoi trovare maggiori informazioni agli URL menzionati nel nostro riferimento. In ogni caso, possiamo essere curiosi di vedere quali soluzioni innovative ci verranno presentate nei prossimi anni con il nuovo concorrente del grafene.