Dokunmatik ekranlar, esnek ekranlar, yazdırılabilir elektronikler, fotovoltaik veya katı hal aydınlatması gibi yeni elektronik cihazlar, esnek, şeffaf elektrik iletkenlerinin pazar büyümesinde hızlı bir artışa yol açmıştır. Okuyucularımız, ITO'nun (indiyum kalay oksit) uzun zamandan beri bir çözüm olmaktan çıktığını zaten biliyorlar. Ayrıca, bir ITO ikamesi olarak grafene olan talebin son yıllarda keskin bir şekilde arttığı görülmektedir. Grafenin sentezi ve karakterizasyonundaki son gelişmeler, şeffaf bir iletken olarak birçok elektronik uygulama için ilginç olduğunu göstermektedir.

Grafenin bu alanda yararlı olduğu kanıtlandığından, yüksek kaliteli ve aynı zamanda ucuz bir üretim yönteminin giderek daha ölçeklenebilir olanakları aranmaktadır. Aşağıdaki tabloda, grafen için bugüne kadarki en önemli sentez yöntemleri listelenmiştir.| Sentez yöntemi| İlke| |----|----| | Mekanik peeling | Bir yapışkan film yardımıyla, bir grafit kristalinin üst tabakasını soyun ve uygun bir taşıyıcıya aktarın | | Kimyasal Peeling | Bir grafit kristalinin bireysel katmanları arasında uygun reaktiflerin interkalasyonu ile, ultrasonik tedavi yardımı ile çözelti içinde grafen pulları elde edilir | | Grafen oksidin indirgenmesi | Sudaki grafit oksidin grafen okside pul pul dökülmesi, ardından oksijenli grupları uzaklaştırmak için kimyasal indirgeme | | Silisyum karbür üzerinde epitaksiyel büyüme | Bir silisyum karbür kristalinin yaklaşık 1000 derece C'de termal ayrışması.| | Karışık Gaz Faz İzolasyonu (CVD)| Gaz halindeki bir karbon kaynağının (örneğin metan) metalik bir destek (Cu veya Ni) üzerindeki grafen monokatmanlarına katalitik ayrışması|

Bu arada, CVD (kimyasal buhar birikimi), grafen sentezinin en ilginç yöntemlerinden biridir (aşağıdaki tabloya bakınız) çünkü neredeyse mükemmel grafen üretir.| Grafen Malzeme| Elektrik. Faktör| Şeffaflık| |----|----|----| | CVD-G|280 Ω/metrekare| %80| | CVD-G|350 Ω/sq|%90| | CVD-G|700 Ω/sq|%80|Bu sentez yöntemiyle, düşük elektrik direnci ile ortaya çıkan şeffaflık oldukça yüksekti (% 80).